上海微电子装备有限公司是中国最大的光刻机生产厂家之一,目前该公司已量产最先进的SSA600/20系列光刻机,该系列光刻机依旧采用193nm ArF光源技术,能够满足90nm芯...
1. 光刻机、光刻胶:制造芯片的光刻机,其精度决定了芯片性能的上限。最新消息显示,上海微电子装备计划于2021年交付首台国产28nm的immersion光刻机,即使这一技术...
28nm制程虽非最先进,但已能满足大部分市场需求,包括物联网、家电等领域。全球晶圆代工数据显示,28nm以上制程是主流,掌握这一技术将大大满足国内需求。关键设备...
在光刻技术这一关键领域,我国虽然在EUV光源、多层膜、掩膜、光刻胶以及超光滑抛光技术等方面有所突破,但总体技术实力与发达国家仍存在明显差距。刘明院士指出,...
近日,国产光刻机厂商上海微电子在之前90nm的基础上,宣布将于年底量产28nm的immersion式光刻机,在2021年至2022年交付国产第一台SSA/800-10W光刻机设备。 immers...
他举例指出,ASML公司的EUV光刻机已经能够支持7nm及以下的生产工艺,而我国的光刻机技术相对落后,目前只能达到90nm级别,主要用于低端生产线和面板生产。对于28nm...
smee光刻机28纳米。据媒体报道,上海微电子装备(SMEE)股份有限公司创新技术,在之前90nm的基础上,宣布在2021年至2022年交付国产第一台28nm的immersion式光刻机...
市场格局与国产化进程 在市场中,ASML的EUV光刻机几乎垄断,但国内厂商如上海微电子、科益虹源等正在奋起直追。上海微电子计划交付28nm浸没式DUV光刻机,南大光电...
令人瞩目的是,上海微电子在2021-2022年间实现了重大里程碑,成功交付了国产首台28nm的immersion式光刻机,这标志着中国在精密制造领域迈出了坚实的一步。在市场表...
不只是南大光电,此前晶瑞股份曾花费七千多万人民币购买了一台ASML光刻机,虽然是二手的,但是对研发28nm高端光刻胶也有重大意义。另外上海新阳采购的ASML光刻机也...
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